沉金采用的是化學沉積的方法,通過化學氧化還原反應的方法生成一層鍍層,一般厚度較厚,是化學鎳金金層沉積方法的一種,可以達到較厚的金層。
沉金厚度一般在0.025-0.1um之間,主要應用於電路板表麵處理,其導電性強,抗氧化性好,壽命長。對於要求較高的板子,平整度要求要好,一般就采用沉金,沉金一般不會出現組裝後的黑墊現象。
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